Producten
Krypton van hoge zuiverheid en ultrazuiver krypton (Kr: 5N, 5,5N, 6N)
| Item | Technische eigenschap | ||
| Krypton van hoge zuiverheid GB/T5829-2006 | Ultrazuiver krypton | ||
| Kr-zuiverheid (volumefractie)/10-2≥ | 99.999 | 99,9995 | 99.9999 |
| Stikstof (N)2) inhoud (volumefractie)/10-6≤ | 2 | 1.5 | 0,2 |
| Zuurstof (O)2) inhoud (volumefractie)/10-6≤ | 1.5(O2+Ar) | 0,5(O2+Ar) | 0,1 |
| Argon (Ar)-gehalte (volumefractie)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Waterstof (H)2) inhoud (volumefractie)/10-6≤ | 0,5 | 0,2 | 0,05 |
| Koolmonoxide (CO)-gehalte (volumefractie)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Koolstofdioxide (CO₂)2) inhoud (volumefractie)/10-6≤ | 0,4 | 0,1 | 0,05 |
| Methaan (CH₄)4) inhoud (volumefractie)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Water (H2O) inhoud (volumefractie)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Xenon (Xe)-gehalte (volumefractie)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Fluoride (CF4) inhoud (volumefractie)/10-6≤ | 1 | 0,2 | 0,05 |
Toepassingsgebied: voornamelijk gebruikt in de halfgeleiderindustrie, de vacuümindustrie, de lichtbronnenindustrie, maar ook in lasergas, de medische sector en andere sectoren.
Schrijf hier je bericht en stuur het naar ons.
