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Kripton ad alta purezza e Kripton ultrapuro (Kr: 5N, 5.5N, 6N)
| Articolo | Proprietà tecnica | ||
| kripton ad elevata purezza GB/T5829-2006 | kripton ultrapuro | ||
| Purezza del Kr (frazione di volume)/10-2≥ | 99.999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Azoto (N2) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 2 | 1.5 | 0,2 |
| Ossigeno (O2) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 1.5(O2+Ar) | 0,5(O2+Ar) | 0,1 |
| Contenuto di argon (Ar) (frazione di volume)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Idrogeno (H2) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 0,5 | 0,2 | 0,05 |
| Contenuto di monossido di carbonio (CO) (frazione di volume)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| anidride carbonica (CO₂)2) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 0,4 | 0,1 | 0,05 |
| Metano (CH4) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Acqua (H2O) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Contenuto di xeno (Xe) (frazione di volume)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Fluoruro (CF4) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 1 | 0,2 | 0,05 |
Campo di applicazione: utilizzato principalmente nell'industria dei semiconduttori, nell'industria del vuoto elettrico, nell'industria delle sorgenti luminose elettriche, nonché nei gas laser, nel settore medico-sanitario e in altri settori.
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