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Xeno ad alta purezza e xenon ultrapuro (Xe: 5N, 5.5N, 6N)
| Articolo | Proprietà tecnica | ||
| Xeno ad elevata purezza GB/T5828-2006 | Xeno ultrapuro | ||
| Purezza dello xeno (Xe) (frazione di volume)/10-2≥ | 99.999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Azoto (N2) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 2.5 | 1.5 | 0,2 |
| Ossigeno (O2) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 1,5(O2+Ar) | 0,5(O2+Ar) | 0,1 |
| Contenuto di argon (Ar) (frazione di volume)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Idrogeno (H2) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 0,5 | 0,5 | 0,05 |
| Contenuto di monossido di carbonio (CO) (frazione di volume)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05(CO+CO2) |
| Contenuto di anidride carbonica (CO2) (frazione di volume)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | |
| Metano (CH4) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Acqua (H2O) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
| Contenuto di kripton (Kr) (frazione di volume)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,1 |
| Ossido nitroso (N2O) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 0,2 | 0,1 | 0,05 |
| Fluoruro (C2F6) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | 0,5 | 0,1 | 0,05 |
| Fluoruro (SF6) contenuto (frazione di volume)/10-6≤ | N / A | N / A | 0,05 |
Campi di applicazione: utilizzato principalmente nell'industria dei semiconduttori, aerospaziale, nell'industria delle sorgenti luminose, nel trattamento medico, nel vuoto elettrico, nella ricerca sulla materia oscura, nei laser e in altri settori.
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