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Criptônio de alta pureza e criptônio ultrapuro (Kr: 5N, 5,5N, 6N)
| Item | Propriedade técnica | ||
| Criptônio de alta pureza GB/T5829-2006 | Criptônio ultrapuro | ||
| Pureza de Kr (fração volumétrica)/10-2≥ | 99,999 | 99,9995 | 99,9999 |
| Nitrogênio (N)2) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 2 | 1,5 | 0,2 |
| Oxigênio (O2) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 1,5(O2+Ar) | 0,5(O2+Ar) | 0,1 |
| Conteúdo de argônio (Ar) (fração volumétrica)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Hidrogênio (H)2) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 0,5 | 0,2 | 0,05 |
| Teor de monóxido de carbono (CO) (fração volumétrica)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Dióxido de carbono (CO₂)2) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 0,4 | 0,1 | 0,05 |
| Metano (CH4)4) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 0,3 | 0,1 | 0,05 |
| Água (H2O) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Conteúdo de xenônio (Xe) (fração volumétrica)/10-6≤ | 2 | 1 | 0,2 |
| Fluoreto (CF4) conteúdo (fração de volume)/10-6≤ | 1 | 0,2 | 0,05 |
Campo de aplicação: utilizado principalmente na indústria de semicondutores, indústria de vácuo elétrico, indústria de fontes de luz elétrica, bem como em gases laser, saúde e outros campos.
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