
| Элемент | Технические свойства | ||
| Ксенон высокой чистоты GB/T5828-2006 | Сверхчистый ксенон | ||
| Чистота ксенона (Xe) (объемная доля)/10-2≥ | 99.999 | 99.9995 | 99.9999 |
| Азот (N)2) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 2.5 | 1.5 | 0.2 |
| Кислород (O)2) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 1.5(O2+Ар) | 0.5(O2+Ар) | 0.1 |
| Содержание аргона (Ar) (объемная доля)/10-6≤ | 0,05 | ||
| Водород (H)2) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 0,5 | 0,5 | 0,05 |
| Содержание оксида углерода (CO) (объемная доля)/10-6≤ | 0.2 | 0.1 | 0,05(CO+CO)2) |
| Содержание углекислого газа (CO2) (объемная доля)/10-6≤ | 0.3 | 0.1 | |
| Метан (CH₄)4) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 0.3 | 0.1 | 0,05 |
| Вода (H)2O) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 2 | 1 | 0.1 |
| Содержание криптона (Kr) (объемная доля)/10-6≤ | 2 | 1 | 0.1 |
| Закись азота (N)2O) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 0.2 | 0.1 | 0,05 |
| Фторид (C)2F6) содержание (объемная доля)/10-6≤ | 0,5 | 0.1 | 0,05 |
| Фторид (SF)6) содержание (объемная доля)/10-6≤ | Н/Д | Н/Д | 0,05 |
Области применения: в основном используется в полупроводниковой промышленности, аэрокосмической отрасли, производстве источников света, медицине, электровакуумной технике, исследованиях темной материи, лазерной технике и других областях.