Mga Produkto
Argon gas para sa industriya ng elektroniko (Ar)
| Aytem | Teknikal na Ari-arian | |
| Kadalisayan ng Argon (Ar) (bahagi ng volume)/10-2≥ | 99.9999 | 99.9992 |
| Hidroheno (H2) nilalaman (bahagi ng volume)/10-6≤ | 0.1 | 1 |
| Nitroheno (N2) nilalaman (bahagi ng volume)/10-6≤ | 0.5 | 5 |
| Oksiheno (O2) nilalaman (bahagi ng volume)/10-6≤ | 0.2 | 0.5 |
| Kabuuang nilalaman ng carbon monoxide (CO) at carbon dioxide (CO2), (bahagi ng volume)/10-6≤ | Karbon monoksid: 0.1 Karbon dioksida: 0.1 | 0.5 |
| Kabuuang hydrocarbon (kinakalkula gamit ang methane) nilalaman (volume fraction)/10-6≤ | 0.1 | 0.5 |
| Tubig (H2O) nilalaman (bahagi ng volume)/10-6≤ | 0.2 | 0.5 |
| Kabuuang nilalaman ng karumihan (bahagi ng volume)/10-6≤ | 1 | 8 |
| Butil | Napagkasunduan ng Tagapagtustos at ng Humihingi | Napagkasunduan ng Tagapagtustos at ng Humihingi |
| Paalala: Ang nilalaman ng tubig ng likidong argon ay dapat sukatin pagkatapos ng gasification | ||
Larangan ng aplikasyon: pangunahing ginagamit para sa paglilinis, proteksyon at pagbibigay ng presyon ng sistema. Maaari rin itong gamitin sa pagdeposito ng kemikal na singaw, sputtering, plasma at aktibong ion etchant, annealing at iba pang iba't ibang proseso, pati na rin sa elektronikong espesyal na halo-halong gas.
Isulat ang iyong mensahe dito at ipadala ito sa amin
