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Kohlenstofftetrafluorid
Tetrafluormethan, auch bekannt als Tetrafluorkohlenstoff (CF₄), ist der einfachste Fluorkohlenwasserstoff. Aufgrund der Natur der Kohlenstoff-Fluor-Bindung besitzt es eine sehr hohe Bindungsstärke. Es zählt zu den Halogenalkanen. Wegen der zahlreichen Kohlenstoff-Fluor-Bindungen und der hohen Elektronegativität des Fluors trägt das Kohlenstoffatom im Tetrafluormethan eine signifikante positive Partialladung. Diese verstärkt und verkürzt die vier Kohlenstoff-Fluor-Bindungen und verleiht dem Kohlenstoffatom zusätzlichen ionischen Charakter. Tetrafluormethan ist ein starkes Treibhausgas.
Tetrafluormethan wird gelegentlich als Kältemittel bei niedrigen Temperaturen eingesetzt. Es findet Verwendung in der Elektronik-Mikrofertigung, entweder allein oder in Kombination mit Sauerstoff, als Plasmaätzmittel für Silizium, Siliziumdioxid und Siliziumnitrid.
| Chemische Formel | CF4 | Molekulargewicht | 88 |
| CAS-Nr. | 75-73-0 | EINECS-Nr. | 200-896-5 |
| Schmelzpunkt | -184℃ | Boling-Punkt | -128,1℃ |
| Löslichkeit | Unlöslich in Wasser | Dichte | 1,96 g/cm³ (-184 °C) |
| Aussehen | Ein farbloses, geruchloses, nicht entzündbares, komprimierbares Gas | Anwendung | Wird im Plasmaätzverfahren für verschiedene integrierte Schaltungen verwendet und dient auch als Lasergas, Kältemittel usw. |
| DOT-Identifikationsnummer | UN1982 | DOT/IMO-VERSANDNAME: | Tetrafluormethan, komprimiertes Kältemittelgas R14 |
| DOT-Gefahrenklasse | Klasse 2.2 |
| Artikel | Wert, Note I | Wert, Güteklasse II | Einheit |
| Reinheit | ≥99,999 | ≥99,9997 | % |
| O2 | ≤1,0 | ≤0,5 | ppmv |
| N2 | ≤4,0 | ≤1,0 | ppmv |
| CO | ≤0,1 | ≤0,1 | ppmv |
| CO2 | ≤1,0 | ≤0,5 | ppmv |
| SF6 | ≤0,8 | ≤0,2 | ppmv |
| Andere Fluorkohlenwasserstoffe | ≤1,0 | ≤0,5 | ppmv |
| H2O | ≤1,0 | ≤0,5 | ppmv |
| H2 | ≤1,0 | — | ppmv |
| Säure | ≤0,1 | ≤0,1 | ppmv |
| *andere Fluorkohlenwasserstoffe beziehen sich auf C2F6,C3F8 | |||
Anmerkungen
1) Alle oben angegebenen technischen Daten dienen Ihrer Information.
2) Eine alternative Spezifikation ist zur weiteren Diskussion willkommen.
